이번 C3F8 생산설비는 이 회사가 추진중인 실린더 용기의 반도체 공정용 특수가스 제품 국산화 프로젝트의 일환으로 지난해 2월 이후 진행돼 10개월 후인 12월부터 본격 가동에 돌입했던 것으로 밝혀졌다.
반도체 CVD공정 중 클린룸 유지에 사용되는 C3F8은 그동안 지구온난화를 초래했던 C2F6나 CF4를 대체할 수 있는 반도체용 가스로 별도의 추가설비 없이 C2F6 및 CF4를 대체할 수 있으며 전체 가스사용량 감소, 클리닝 시간 단축 등 메리트가 높아 반도체 제조업체들을 중심으로 수요가 크게 늘고있는 추세이다
국내에서도 환경피해를 최소화하면서 생산효율을 높일 수 있다는 이유로 지난해 삼성전자가 업계최초로 C3F8을 사용하기 시작했다.
이에 프렉스에어코리아는 기흥공장이 완공됨에 따라 원료개발업체인 3M으로부터 대용량의 원료를 제공받아 순도 99.96%의 C3F8을 자체 생산, 현재 47ℓ실린더와 톤(Ton)컨테이너 등의 방식으로 삼성전자·현대전자·페어차일드코리아 등에 제품을 공급하고 있다.
이와 관련 프렉스에어코리아의 한 관계자는 “기흥공장의 C3F8 설비에는 미국 본사의 기술지도로 클린룸 충전, 최첨단 정제 시스템, 실린더용기 내면 처리공정 및 관련 첨단 분석장비 등을 종합적으로 완비했다”며 “이 부문 국내 최대, 국내 최고의 시설”이라고 강조했다.
그는 또 “기흥공장 완공으로 국내 반도체 제조업체들은 공급시간단축 및 공급의 안정성을 확보할 수 있게 됐다”고 덧붙였다.
이락순 객원기자 < i 가스저널 >