에기평, NF₃ 순환기술 개발 추진
에기평, NF₃ 순환기술 개발 추진
  • 최인식 기자
  • 승인 2013.09.17
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미국·일본과 동등하거나 높은 수준 목표

[투데이에너지 최인식 기자] 반도체 및 LCD 공정 시 발생되는 NF₃에 대한 순환기술 개발연구가 진행될 예정이다.

한국에너지기술평가연구원은 16일 제3차 2013년 에너지기술개발사업 하반기 중장기 및 단기 신규지원 대상과제 발표를 통해 ‘반도체ㆍLCD 공정 발생 NF₃ 순환기술 개발’를 국책과제로 선정, 공고했다.

이번 연구의 목표는 반도체 및 LCD 공정 중 발생하는 NF₃에 대한 순환기술을 개발하는 것으로 △DUST 제거효율 △수분제거효율 △농축 회수율 등을 지표로 삼아 현재 NF₃ 순환관련 최고 선진기술을 보유한 미국, 일본과 동등하거나 높은 수준의 기술개발을 계획하고 있다.

연구과제의 주요내용으로는 △반도체ㆍLCD 공정별 저에너지 가스 전처리 소재 및 시스템기술 확보 △저손실 NF₃ 흡착 소재 개발 △고선택성·고투과도 불화가스 정제 및 회수용 분리막 소재 개발 △저에너지형 NF₃ 촉매 분해 처리 기술 개발 △분리막-흡착 하이브리드 NF₃ 전처리-분리-농축-처리시스템 엔지니어링 기술 개발 △회수된 NF₃ 가스로부터 99.999% 이상 순도 NF₃ 가스 재생산 기술 확보 등이 있다.

에기평에 따르면 지구온난화지수가 1만7,200에 달하는 NF₃는 2013년 post kyoto 체제 온실가스 배출 감축대상 최우선 후보이자 EPA규제 대상가스로 반도체 및 디스플레이업계에서 주력으로 사용되고 있는 온실가스다.

또한 SF₆ 사용 공정을 일부 대신하는 대체가스로 현재 전체 사용량이 증가하고 있으며 NF₃의 국내 업체 생산량이 전세계 점유율의 70% 이상을 차지하고 있어 이의 분리처리 및 재활용 기술개발이 시급한 실정이다.

이러한 배경을 바탕으로 에기평은 이번 과제선정을 통해 향후 강화될 국제적 규제에 대응하고 이와 관련된 시장점유 확대에 나설 예정이다.

불화가스 관련기술의 적용분야는 직접처리, 회수, 정제 및 재활용, 대체물질분야로 2013년 전 세계 시장규모는 1조6,500억원으로 집계되고 있으며 2019년 2조5,500억원까지 성장할 것으로 예측되고 있다.

특히 NF₃는 전체 사용량의 90%를 반도체·디스플레이 제조의 식각·CVD 및 세정공정에서 사용되고 있어 이번 기술연구는 삼성, LG, SK하이닉스 등 국내 대표 전자기업들의 경쟁력 향상에 큰 도움이 될 것으로 보인다.

에기평의 관계자는 “NF₃ 가스와 관련된 불화가스의 분리, 농출, 재사용 관련 시장은 ‘해외시장=국내시장’이라는 특이한 시장분야라는 점이 국내 개발기술로 국내외 시장을 선점, 조정할 수 있는 중요한 요소”라며 “특히 NF₃는 국내기업인 OCI머티리얼즈가 세계 시장 공급량의 70%를 점유하고 있어 NF₃의 회수, 재사용 시장은 국내업체가 주도적으로 리드할 수 있을 뿐만 아니라 국내 기술이 세계 표준기술로 자리매김할 수 있는 경쟁력 높은 국내 기술주도형 시장으로 판단된다”고 말했다.


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