[투데이에너지 박명종 기자] 국내 메모리 반도체 선도기업 SK하이닉스가 영국 계측장비 전문기업 인피니티시마(Infinitesima)의 초고속 원자력 현미경(AFM) 시스템 'Metron®3D 300mm'을 자사 DRAM 제조 라인에 도입해 양산에 적용했다고 발표했다.
이번에 도입된 Metron®3D는 기존 AFM 대비 10배에서 100배 빠른 이미지 생성 속도를 자랑하는 인라인 웨이퍼 계측 시스템이다. 서브 나노미터 정확도의 3차원 공정 제어가 가능해 SK하이닉스의 차세대 메모리 디바이스 제조에 핵심 역할을 담당하게 됐다.
SK하이닉스는 여러 공정 단계에 대한 시스템 특성화 작업을 포함한 광범위한 평가를 거쳐 이번 양산 라인 적용을 결정했다. 이는 대량 생산(HVM) 환경에서 요구되는 신속한 처리 작업에 최적화된 성능을 입증한 결과다.
최영현 SK하이닉스 DMI(결함 분석, 계측 및 검사 기술) 담당 선임은 "나노미터 수준에서의 3차원 공정 제어는 첨단 DRAM 공정에서 고수율을 보장하는 데 점점 더 중요해지고 있다"며 "인피니티시마의 Metron®3D는 HVM 구현에 필요한 비용 효율성을 갖춘 우수한 서브 나노미터 3D 계측 성능을 입증했다"고 평가했다.
Metron®3D의 핵심 기술은 인피니티시마 고유의 RPM™(Rapid Probe Microscope™) 기술이다. 이 기술은 AFM의 3차원 표면 탐지 기능, 고속 레이저 활성화, 간섭계의 정확성을 결합한 혁신적인 솔루션으로, 광범위한 특허 포트폴리오로 보호받고 있다.
시스템은 완전 자동화된 웨이퍼, 데이터, 프로브 핸들링 기능을 지원해 반도체 디바이스의 인라인 대량 생산에 최적화되어 있다. 이는 현재의 광학 및 전자빔 기술로는 해결할 수 없는 차세대 공정 제어 문제를 해결하는 솔루션으로 주목받고 있다.
피터 젠킨스(Peter Jenkins) 인피니티시마 회장 겸 CEO는 "SK하이닉스와 협력하게 되어 매우 기쁘다"며 "SK하이닉스의 지원과 지도 덕분에 우리 Metron®3D 시스템이 신속히 품질 평가를 마치고 HVM에 채택될 수 있었다"고 밝혔다.
이번 계측 솔루션 도입은 SK하이닉스가 컴퓨터 메모리의 개발 및 제조 분야에서 기술 리더십을 유지하기 위한 지속적인 투자의 일환으로 해석된다. 특히 나노미터 수준의 정밀 공정 제어가 필수적인 차세대 메모리 반도체 개발에 있어 중요한 의미를 갖는다.
인피니티시마는 영국에 기반을 둔 반도체 산업용 첨단 계측 솔루션 분야 선도기업으로, 반도체 제조회사들의 증가하는 인라인 서브 나노미터 3D 공정 제어 수요를 충족시키기 위해 RPM™ 기술을 적용한 고속 계측 시스템을 개발해왔다.
SK하이닉스는 전 세계 다양한 고객에게 DRAM과 NAND 플래시 메모리 칩을 공급하는 세계 최고 수준의 반도체 공급회사로, 한국거래소와 룩셈부르크 증권거래소에 상장되어 있다.
■ 참고: 1 나노미터(nm)는 10⁻⁹ 미터이며, 실리콘 원자 1개의 지름은 약 0.2 nm 이하이다.